第347章 半导体产业会议
六月二十六日，徐申学视察了海湾科技，看到了已经处于量产阶段的HDUV-600型光刻机。
当天晚上，海湾科技也在官网上首次公开了新一代DUV浸润式光刻机HDUV-600进入量产的消息。
并公布了该型光刻机已经交付了第一台给智云微电子，将会用于最先进的等效七纳米工艺。
这也是海湾科技首次对外公布该型光刻机的消息，包括一些详细的技术参数。
这个消息也引来了媒体、业内人士甚至普通人的诸多关注。
当天晚上，七点半新闻重点报告了该消息：本台记者消息，我国先进半导体装备企业海湾科技有限公司已经完成了最新一代DUV浸润式光刻机的研发工作。
新型的HDUV-600型光刻机已经达到国际领先水平，填补了我国尖端半导体装备领域的空白，有力促进了我国半导体制造行业的发展。
海湾科技负责人王道林表示，HDUV-600光刻机的各项技术参数已经达到国际领先水平，乃是当下最先进的光刻机，可以用来制造最低七纳米工艺的芯片
一项设备的研发成功，能够做到上七点半新闻报道的程度，那可不容易，很少有设备能够做到这种程度的。
但是光刻机却是可以！
实际上，这不是海湾科技第一次上七点半新闻，实际上之前在HDUV-400光刻机，也就是第一代DUV浸润式光刻机研发成功后，就已经上过七点半新闻了，而当时的报道时长更长，更重视，还伴随着重要人员的视察……
当时电视报道画面，徐申学都只能站在一旁担任解说，为一群来宾介绍海湾科技的HDUV-400型光刻机，陈述该型光刻机的重要历史意义以及现实意义。
现在报道HDUV-600型光刻机的待遇，说实话都差了点……不过好歹也是关键技术突破，所以常规报道还是会有的。
HDUV-600型研发成功并交付量产，这让国内很多人，尤其是一些自诩业内人士都感叹：是我太保守了。
前几年海湾科技搞出来HDUV-400型号光刻机的时候，也引起了一片舆论的狂欢，不少业内人士也积极参与讨论。
当时也有相关的探讨，那就是：
海湾科技的光刻机，什么时候才能够追上ASML的水准。
毕竟当时的HDUV-400光刻机，其性能也就大概和NXT-1950相当。
而NXT1950出现的时候，那已经是2008年的事了，而该款光刻机也是推动半导体的芯片工艺从以往的六十五纳米，下探到32/28纳米工艺的核心设备。
或者说，正是因为有了这款光刻机，才让32/28工艺具备了大规模量产的可行性。
海湾科技可是花了好多年才弄出来了核心性能相当，但是生产效率还差一些的HDUV-400型光刻机……但是，这款光刻机历史意义重大，因为该款光刻机的出现，意味着海湾科技突破了一系列DUV浸润式光刻机的关键技术。
当时，人们所畅想的是，海湾科技继续努力，争取三年一个台阶，在解决28纳米工艺之后，三年内解决可以进行双重曝光，能够把工艺下探到10-22纳米工艺的光刻机。
至于更进一步，甚至能够进行四重曝光的光刻机，乐观估计，五年内能够解决就是巨大的胜利。
但是让人没有想到的是，海湾科技在突破了DUV浸润式光刻机的关键技术后，在小型号的快速迭代上进展迅速，几乎一年一个台阶。
去年推出HDUV-500型光刻机，把套刻精度做到了三点五纳米，实现了双重曝光的基本需求，可以用来做十四纳米工艺的芯片，一开始的性能上基本和NXT1965相当，但是不太成熟。
后来海湾科技推出了升级型号HDUV-500A，虽然工作台产能一样，不过性能更好，更稳定，这款光刻机的性能除了产能低一些，其他性能指标基本上和NXT1970持平。
而智云微电子以及隔壁的中芯，还有国内其他一些芯片厂商大规模采购的海湾科技的先进光刻机，其实都不是HDUV-500型号，而是HDUV-500A型。
去年搞出来500型号就已经够夸张的了，结果海湾科技愣是在今年六月份的时候，就交付了更新一代的HDUV-600型，把套刻精度直接拉到了二点五纳米的水准。
这一型号的核心性能水准，已经和NXT1980相当了……虽然还是有着老毛病，因为工作台不太行，所以生产效率低，后续的维护也会比较麻烦，但是还是太吓人了。
而要知道，虽然去年ASML就已经搞出来了NXT1980光刻机，但实际上大规模出货也是在今年年初而已。
而海湾科技的同级别光刻机大规模出货，则是迟了半年左右！
这意味着，双方之间的差距从之前的十多年，再到四五年，然后又缩小到了现在的半年。
这一系列的技术进步速度，让很多人都感觉到不可思议。
别说外人不信了，自己人都不信……太尼玛夸张了。
因此很多人也怀疑，海湾科技是不是抄袭了ASML的技术……还别说，他们没怀疑错，海湾科技还真就直接对着ASML的光刻机抄。
抄就抄了，也没啥好丢人的，毕竟技术路线就那么几条，总不能人家在前头走过的路，海湾科技就不能走了啊。
徐申学也好，海湾科技的研发人员也好，从不避讳这些，能抄就抄，抄不了硬抄…